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西气东输的起点与终点,西气东输的起止点是哪里?

西气东输的起点与终点,西气东输的起止点是哪里? 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界(jiè)4月24日消息,国家知识产权(quán)局局长申(shēn)长雨在新闻发布(bù)会上表示,将统(tǒng)筹推(tuī)进各类知识产(chǎn)权法律法规和制(zhì)度(dù)规则的制修订工作(zuò)。其中,修改完善集成电路布(bù)图(tú)设计保(bǎo)护条例,适应(yīng)大规模集成电路发展需要,助力芯片产业做大做强,服务(wù)数字经济更好(hǎo)发展。

  加(jiā)强大(dà)数据、人工(gōng)智能、基因技术(shù)等新领(lǐng)域新业态(tài)知识(shí)产权规则(zé)研究,助力相(xiāng)关(guā西气东输的起点与终点,西气东输的起止点是哪里?n)领域创新发(fā)展。同时,积(jī)极参与知识产权国际规(guī)则制定,更好对(duì)接(jiē)高标准国际经(jīng)贸规则(zé),助力(lì)高水平对外(wài)开(kāi)放。

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